產(chǎn)品展示
空氣隙標(biāo)準(zhǔn)具
隨著現(xiàn)代通訊及測量技術(shù)的不斷進(jìn)步， 對于波長輸出及光通道鎖定技術(shù)要求越來越高， 從簡單的真空鍍膜到結(jié)合多光束干涉技術(shù)使得在波分復(fù)用及測量技術(shù)中發(fā)生很大的飛躍， 尤其是高穩(wěn)定性結(jié)構(gòu)的標(biāo)準(zhǔn)具設(shè)計(jì)與當(dāng)今要求的通信技術(shù)和測量技術(shù)的進(jìn)展珠聯(lián)璧合， 因此成為光通訊及光學(xué)測量儀器的前沿技術(shù)。標(biāo)準(zhǔn)具是利用多光束干涉原理，將組成干涉腔的兩個表面通過鍍不同反射率的光學(xué)反射膜，最終形成一個多光束干涉腔， 實(shí)際上它也是一個窄帶濾波器， 標(biāo)準(zhǔn)具被廣泛用于光通訊行業(yè)。
空氣隙標(biāo)準(zhǔn)具
參考規(guī)格
|
指標(biāo)
|
常規(guī)精度
|
高精度
|
|
材料
|
N-BK7;或者熔石英等
|
|
|
尺寸X×Y:
|
1×1mm~25.4×25.4mm；φ3~φ25.4mm
|
|
|
尺寸公差
|
±0.1mm
|
±0.03mm
|
|
平行度
|
＜3′
|
＜30″
|
|
有效孔徑
|
85%
|
|
|
光潔度
|
MIL20-10
|
|
|
面形(在25.4mm區(qū)域):
|
λ/4@ 632.8nm
|
λ/8@ 632.8nm
|
|
FWHM:
|
10 nm
|
|
|
波長精度
|
±2nm for 10nm FWHM
|
|
|
鍍膜
|
由客戶設(shè)計(jì)
|
|